метка: "лучевого"

Технология ионно-лучевого распыления

Технология ионно-лучевого распыления

Для получения многослойных структур используют метод ионно-лучевого распыления. Из-за того , что распыление осуществляется в условиях низких температур, можно легко работать с материалами, которые имеют чувствительность к действию высоких температур. Скорость процесса очень высока, как для вакуумных методов опыления, и характеризуется стабильностью потока налаживаемых частиц.

Jan 02, 2016 | Просмотреть запись